Résumé
ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Informations générales
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2004-05Stade: Norme internationale confirmée [90.93]
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Edition: 1
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Comité technique :ISO/TC 201ICS :71.040.40
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Cycle de vie
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Actuellement
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Proposition
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Préparation
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Enquête
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Approbation
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Publication
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Examen
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Annulation
Rectificatifs techniques / Amendements
PubliéeISO 17331:2004/Amd 1:2010
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