Reference number
ISO 17331:2004
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International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 1
2004-05
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Indisponible en français
Publiée (Edition 1, 2004)
Cette publication a été révisée et confirmée pour la dernière fois en 2019. Cette édition reste donc d’actualité.
Cette norme comprend 1 amendement.

ISO 17331:2004

Langue
Format
CHF 98
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Résumé

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2004-05
    Stade
    : Clôture de l'examen [90.60]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

 Amendements

Des amendements sont publiés lorsqu’il s’avère que de nouveaux éléments doivent être ajoutés à un document normatif existant. Ils peuvent également inclure des corrections d’ordre rédactionnel ou technique à appliquer au document en vigueur.

Amendement 1

Edition 2010

Langue
Format
CHF 18
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Cycle de vie

Objectifs de développement durable

Cette norme contribue aux Objectifs de développement durable suivants

7
Énergie propre et d'un coût abordable
9
Industrie, innovation et infrastructure

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