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Résumé

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Informations générales

  • État actuel
     : Publiée
    Date de publication
     : 2004-05
    Stade
    : Norme internationale confirmée [90.93]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour
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9
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