ISO 23812:2009

Publiée (Edition 1, 2009)

Cette publication a été révisée et confirmée pour la dernière fois en 2020. Cette édition reste donc d’actualité.

ISO 23812:2009

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Résumé

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

Informations générales

État actuel
: Publiée

Date de publication
: 2009-04

Stade
: Norme internationale confirmée [90.93]
Edition
: 1

Nombre de pages
: 19
Comité technique :
ISO/TC 201/SC 6

ICS :
71.040.40
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