Reference number
ISO 14237:2010
© ISO 2024
International Standard
ISO 14237:2010
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
Edition 2
2010-07
Preview
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 2, 2010)
Последний раз этот публикация был пересмотрен в  2021. Поэтому данная версия остается актуальной.

ISO 14237:2010

Язык
Формат
CHF 129
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

ISO 14237:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method for the determination of boron atomic concentration in single-crystalline silicon using uniformly doped materials calibrated by a certified reference material implanted with boron. This method is applicable to uniformly doped boron in the concentration range from 1 x 1016 atoms/cm3 to 1 x 1020 atoms/cm3.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2010-07
    Этап
    : Подтверждение действия международного стандарта [90.93]
  • Версия
     : 2
  • Технический комитет :
    ISO/TC 201/SC 6
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура
7
Недорогостоящая и чистая энергия

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 14237:2010