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Resumen

This document gives guidance and requirements on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials, in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

This document is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.

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Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2022-11
    Etapa
    : Norma Internacional publicada [60.60]
  • Edición
     : 3
    Número de páginas
     : 17
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS actualizaciones

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9
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