Ссылочный номер
ISO 14606:2015
ISO 14606:2015
Surface chemical analysis — Sputter depth profiling — Optimization using layered systems as reference materials
Версия 2
2015-12
В время отменен
ISO 14606:2015
63272
Отозвано (Версия 2, 2015)

Тезис

ISO 14606:2015 gives guidance on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

ISO 14606:2015 is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.

Общая информация

  •  : Отозвано
     : 2015-12
    : Отмена международного стандарта [95.99]
  •  : 2
  • ISO/TC 201/SC 4
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ