Reference number
ISO 17331:2004
International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 1
2004-05
Preview
ISO 17331:2004
32983
No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2004)
Esta publicación se revisó y confirmó por última vez en 2019. Por lo tanto, esta versión es la actual.
Esta norma tiene 1 modificaciones.

ISO 17331:2004

ISO 17331:2004
32983
Idioma
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Resumen

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.

Informaciones generales

  •  : Publicado
     : 2004-05
    : Norma Internacional en proceso de revisión sistemática [90.20]
  •  : 1
     : 18
  • ISO/TC 201
    71.040.40 
  • RSS actualizaciones

 Modificaciones

Las enmiendas se emiten cuando se decide que puede ser necesario agregar nuevo material a un documento de normalización existente. También pueden incluir correcciones editoriales o técnicas que deban aplicarse al documento existente.

Amendment 1

Edición 2010

ISO 17331:2004/Amd 1:2010
51406
Idioma
Formato
CHF 18
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