Reference number
ISO 21859:2019
© ISO 2024
International Standard
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
Edition 1
2019-06
Preview
No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2019)
Esta publicación se revisó y confirmó por última vez en 2024. Por lo tanto, esta versión es la actual.

ISO 21859:2019

Idioma
Formato
CHF 42
Convertir Franco suizo (CHF) a tu moneda

Resumen

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2019-06
    Etapa
    : Norma Internacional confirmada [90.93]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 4
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
  • RSS actualizaciones

Ciclo de vida

Objetivos de Desarrollo Sostenible

Esta norma contribuye al siguiente Objetivo de Desarrollo Sostenible

9
Industry, Innovation and Infrastructure

¿Tiene alguna duda?

Consulte nuestras Ayuda y asistencia

  2. Tienda
  3. Standards catalogue
  4. ICS
  5. 81
  6. 81.060
  7. 81.060.30
  8. ISO 21859:2019